SKトリケム
会社紹介
SKトリケムは、プリカーサー事業分野で長年の業歴を誇る日本の株式会社トリケミカル研究所と共に2016年設立した合作法人で、お客様のニーズを反映したさまざまな半導体プリカーサー製品ポートフォリオと安定的な生産運営能力を備えた韓国No.1プリカーサー専門企業として超高速成長を遂げています。半導体素材技術を活用したディスプレイと環境にやさしい製品へと事業領域を拡張し、Global Top Precursor企業を目指しています。
SKトリケムで生産している製品は半導体素子の製造工程で薄膜を蒸着する用途に使用される有機金属化合物です。 主な生産製品としては、DRAM半導体生産時にALD工程を活用した誘電体幕の蒸着に用いられる高誘電率のHigh-k前駆体（Hf系、Zr系、Ti系）、高積層3D NANDの生産及びCVD/ALD工程によるSiO2薄膜蒸着用途の低誘電率Low-k前駆体（Si系）などがあります。
Business Objective
韓国素材産業の競争力に寄与
- プリカーサー分野において世界最高レベルの技術力と生産能力で韓国の半導体・素材産業の技術競争力向上に寄与
利害関係者からの信頼
- SHE（Safety、Health、Environment）中心の安全事業場運営を基本として、最高水準のコスト競争力／差別化された品質水準／先行研究開発競争力
新素材の開発
- 顧客会社や多様な産学機関との協業R＆Dの拡大により、次世代新素材を開発し、Top tier Precursor専門企業に成長
Site
多方面でのプラント運営ノウハウによる安定したプラント稼働
次世代アイテムの開発に注力するためのR＆D専門組織の構築
顧客のニーズに即刻対応するための拠点オフィスの運営
Product
半導体の微細パターン薄膜蒸着工程用の有機金属化合物であるプリカーサーの研究・開発・生産・販売
| Application | Product | |
|---|---|---|
| Zr-Precursor | ALD工程によるZrO2薄膜蒸着 | CpZr |
| Si-Precursor | CVD/ALD工程によるSiO2薄膜蒸着 | BTBAS, 3DMAS, OMCTS, 4MS |
| Ti-Precursor | ALD工程によるTiO2薄膜蒸着 | TiO2 |
| Hf-Precursor | ALD工程によるHfO2薄膜蒸着 | CpHf |
Zr-プリカーサー、Si-プリカーサー、Ti-プリカーサーなど最高品質の次世代素材を開発しています。 特殊ガスのグローバルNo.1 SKマテリアルズは半導体素材市場で築き上げた信頼と顧客対応力をベースとして、日本のトリケミカル研究所のプリカーサー技術力を集約し、今後、未来成長を牽引する原動力としての役割を果たしてまいります。
前駆体は半導体工程中、反応器へ数種類の反応気体を導入し、化学反応を起こして目的の物質の薄膜をウェーハ上に蒸着する使用されます。半導体の微細化や積層構造の増加により、その需要の成長が期待されます。
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Zr-プリカーサー
半導体DRAMのキャパシタ製造工程で使用され、ALD工程によるZrO2薄膜蒸着の用途に使用されます。
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Si-プリカーサー
半導体DRAMと3D-NAND製造工程で使用され、CVD/ALD工程によるSiO2薄膜蒸着の用途に使用されます。
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Ti-プリカーサー
半導体DRAMのキャパシタ製造工程で使用され、ALD工程によるTiO2薄膜蒸着の用途に使用されます。
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Hf-プリカーサー
半導体DRAMのキャパシタ製造工程で使用され、ALD工程によるHfO2薄膜蒸着の用途に使用されます。