前駆体
次世代工程用の新規特化素材に対する継続的な研究開発をもとに、DRAM電荷保存及び微細回路を実現する最適のソリューションとなる前駆体（プリカーサー）を生産・販売しています。
Zr-プリカーサー、Si-プリカーサー、Ti-プリカーサーなど最高品質の次世代素材を開発しています。 特殊ガスのグローバルNo.1 SKマテリアルズは半導体素材市場で築き上げた信頼と顧客対応力をベースとして、日本のトリケミカル研究所のプリカーサー技術力を集約し、今後、未来成長を牽引する原動力としての役割を果たしてまいります。
前駆体は半導体工程中、反応器へ数種類の反応気体を導入し、化学反応を起こして目的の物質の薄膜をウェーハ上に蒸着する使用されます。半導体の微細化や積層構造の増加により、その需要の成長が期待されます。
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Zr-プリカーサー
半導体DRAMのキャパシタ製造工程で使用され、ALD工程によるZrO2薄膜蒸着の用途に使用されます。
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Si-プリカーサー
半導体DRAMと3D-NAND製造工程で使用され、CVD/ALD工程によるSiO2薄膜蒸着の用途に使用されます。
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Ti-プリカーサー
半導体DRAMのキャパシタ製造工程で使用され、ALD工程によるTiO2薄膜蒸着の用途に使用されます。
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Hf-プリカーサー
半導体DRAMのキャパシタ製造工程で使用され、ALD工程によるHfO2薄膜蒸着の用途に使用されます。