식각가스

최고의 기술력을 바탕으로 세계 식각가스 시장을 선도하고 있습니다.

식각가스 중에서도 정밀한 식각 능력을 가지고 있는 플루오르메탄(CH3F), 육불화부타디엔(C4F6),
디플루오로메탄(CH2F2)을 생산 판매하며, 향후 다양한 식각 Solution을 제공하고자 합니다.

식각가스는 반도체 내부의 회로형성 전 회로가 들어갈 공간을 식각하는 가스로서, 3D 구조의 반도체를 보다 입체적이고 정밀하게 식각하는데 사용됩니다.

  • 플루오르메탄CH3F

    CH3F는 3D NAND Flash 의 질화막 식각에 사용되는 가스로 3D NAND 확산에 따라 그 사용량이 증가하고 있습니다. 국내에서는 당사가 최초 및 유일하게 생산 판매하고 있습니다.

  • 육불화부타디엔C4F6

    C4F6는 미세화되는 DRAM 의 산화막 미세 식각과 3D NAND Flash 의 산화막 식각에도 사용되어 그 수요량이 급증하고 있습니다.

  • 디플루오로메탄CH2F2

    CH2F2 는 CH3F 와 함께 NAND Flash 의 질화막 식각에 사용되는 가스입니다. 최근 3D NAND 의 확산으로 그 사용량이 증가하고 있습니다.

일본 쇼와덴코사와의 협업을 통한 선진기술 확보를 통해 국내 반도체 시장에
고품질의 식각가스를 안정적으로 공급하고 있습니다. 고객의 요구에 선제적으로 대응하고,
끊임없는 연구개발을 통해 식각가스 시장을 선도해 나가고자 합니다.

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