기타 제품

SiH3Cl (Mono Chlorosilane)모노클로로실란

SiH3Cl(MCS)는 반도체 및 디스플레이 공정용으로 사용되는 Precursor의 원재료입니다.

SPECIFICATION

Unit : %
SiH3Cl SiH2Cl2 SiH4 N2
98% 0.03 2 0.1

CYLINDER INFORMATION

 
CYLINDER INFORMATION MATERIAL VALVE CONNECTION TYPE FILLING WEIGHT
Individual Cylinder Mn Steel, Cr-Mo Steel CGA/DISS636 26

He (Helium)헬륨

Helium은 대표적인 불활성 Gas로 산업 전반에서 필요로 하며, Carrier Gas, Purge Gas, Cooling 및 Leak Check, 분위기 가스 등 여러 가지 분야에서 널리 사용됩니다.

Unit : ppm
Purity O2 H2O N2 THC CO CO2 Ne Ar
≥ 99.9995 % < 1.0 < 0.5 < 1.0 < 0.1 < 0.1 < 0.1 < 0.5 < 0.5
He SPECIFICATIO
Purity He ≥ 99.9995 %
Impurity
(ppm)
O2 < 1.0
H2O < 0.5
N2 < 1.0
THC < 0.1
CO < 0.1
CO2 < 0.1
Ne < 0.5
Ar < 0.5

SiCl4 (Silicon Tetrachloride)사염화규소

Polysilicon Wafer 제조시 Si Powder와 같이 사용되는 가스이며, 반도체 공정에서도 Deposition 및 Etch Gas로 사용됩니다.

Unit : ppm
Purity N2 O2 CO2 HCI
≥ 99.9999 % < 1.0 < 1.0 < 1.0 < 1.0
Unit : ppb
Na Fe Ni Mn Cr Cu Zn Al Ca Co
< 1.0 < 4.0 < 4.0 < 1.0 < 1.0 < 5.0 < 1.0 < 5.0 < 2.0 < 8.0
Unit : ppm, ppb
SiCl4 SPECIFICATIO
Purity SiCl4 ≥ 99.9999 %
Impurity
(ppm)
N2 < 1.0
O2 < 1.0
CO2 < 1.0
HCI < 1.0
Impurity
(ppb)
Na < 1.0
Fe < 4.0
Ni < 4.0
Mn < 1.0
Cr < 1.0
Cu < 5.0
Zn < 1.0
Al < 5.0
Ca < 2.0
Co < 8.0

Xe (Xenon)제논

Xenon은 비활성, 무색, 무취의 기체이며, 공기 분리로 얻을 수 있습니다.
디스플레이, 반도체, 의료용 등 Laser 발진용으로 다른 가스와 혼합되어 널리 사용되며, 최근에는 점점 사용처가 늘어나고 있는 추세입니다.

Unit : ppm
Purity Kr O2 N2 CO2 CH4 CF4 C2F6 SF6 NO2 H2O
≥ 99.9999 % < 1.0 < 1.0 < 1.0 < 1.0 < 1.0 < 1.0 < 1.0 < 1.0 < 1.0 < 1.0
Xe SPECIFICATIO
Purity Xe ≥ 99.9999 %
Impurity
(ppm)
Kr < 1.0
O2 < 1.0
N2 < 1.0
CO2 < 1.0
CH4 < 1.0
CF4 < 1.0
C2F6 < 1.0
SF6 < 1.0
NO2 < 1.0
H2O < 1.0
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