その他の高純度ガス
半導体3D NAND及び微細化工程の拡散により需要が増加する高付加価値アイテムについて、製造生産にとどまらず、ソーシング・精製・混合などを通して顧客に供給しています。
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ヘリウムHe
ヘリウムは代表的な不活性ガスで、産業全般で必要とされ、キャリアガス、パージガス、クーリング、リークチェック及び囲気ガスなどさまざまな分野で幅広く使用されます。
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クリプトンKr
半導体3D NANDの深孔加工時にモメンタムガス（momentum gas）として使用されます。
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キセノンXe
半導体の製造工程のうちエッチング工程で使用されるガスで、空気中に含まれる微量の元素で、 希ガス（Rare gas）に分類される不活性ガスです。
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四塩化ケイ素SiCl4
チャンバー内の残留フッ素成分の洗浄及びエッチング、シリカの製造原料として使用されます。
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四フッ化ケイ素SiF4
半導体のプラズマエッチング及びイオン注入工程で利用されるガスです。
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ホスフィンPH3
半導体のイオン注入工程で利用されるガスです。
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アルシンAsH3
半導体のイオン注入工程で利用されるガスです。